不同方法制备的Ta_2O_5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 许程 ; 董洪成 ; 肖祁陵 ; 麻健勇 ; 晋云霞 ; 邵建达 |
| 刊名 | 中国激光
 |
| 出版日期 | 2008 |
| 卷号 | 35期号:10页码:1595 |
| 关键词 | 薄膜 激光损伤阈值 吸收 退火 Beam evaporations Damage thresholds High purities Impurity contents Laser induced damage threshold Mean squares Microdefect densities RMS roughnesses Starting materials |
| ISSN号 | 0258-7025 |
| 其他题名 | Optical properties and laser-induced damage threshold of Ta |
| 中文摘要 | 采用电子束蒸发(EBE)和离子束溅射(IBS)制备了不同的Ta_2O_5薄膜,同时对电子束蒸发制备的薄膜进行了退火处理。研究了制备的Ta_2O_5薄膜的光学性能、激光损伤阈值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂质含量。结果表明,退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善,接近离子束溅射的薄膜的光学性能。电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和杂质含量高,而与薄膜的散射和粗糙度关系不大。退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低,损伤阈值得到提高。退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量,因此选用高纯度的蒸发膜料和减少电子束蒸发过程中的污染有可能进一步提高薄膜的损伤阈值。; Ta |
| 学科主题 | 光学薄膜 |
| 收录类别 | EI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-22 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/4748]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 许程,董洪成,肖祁陵,等. 不同方法制备的Ta_2O_5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析[J]. 中国激光,2008,35(10):1595, 1599. |
| APA | 许程,董洪成,肖祁陵,麻健勇,晋云霞,&邵建达.(2008).不同方法制备的Ta_2O_5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析.中国激光,35(10),1595. |
| MLA | 许程,et al."不同方法制备的Ta_2O_5薄膜光学性能和激光损伤阈值的对比分析".中国激光 35.10(2008):1595. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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