1064nm和532nm共同辐照薄膜的损伤
文献类型:期刊论文
作者 | 周明 ; 赵元安 ; 李大伟 ; 邵建达 ; 范正修 |
刊名 | 中国激光
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出版日期 | 2009-11-15 |
期号 | 36页码:3050 |
关键词 | 薄膜 激光损伤 缺陷 不同波长 |
合作状况 | 其它 |
学科主题 | 激光技术 ; 光学材料 |
收录类别 | 其他 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-04-27 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6633] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 周明,赵元安,李大伟,等. 1064nm和532nm共同辐照薄膜的损伤[J]. 中国激光,2009(36):3050. |
APA | 周明,赵元安,李大伟,邵建达,&范正修.(2009).1064nm和532nm共同辐照薄膜的损伤.中国激光(36),3050. |
MLA | 周明,et al."1064nm和532nm共同辐照薄膜的损伤".中国激光 .36(2009):3050. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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