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Influence of plasma treatment on laser-induced damage characters of HfO2 thin films at 355nm

文献类型:期刊论文

作者Dongping Zhang ; Congjuan Wang ; Ping Fan ; Xingmin Cai ; Zhuanghao Zheng
刊名optics express
出版日期2008-05-11
期号17
合作状况其它
收录类别其他
语种中文
WOS记录号WOS:000266381900055
公开日期2010-04-28
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6649]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Dongping Zhang,Congjuan Wang,Ping Fan,et al. Influence of plasma treatment on laser-induced damage characters of HfO2 thin films at 355nm[J]. optics express,2008(17).
APA Dongping Zhang,Congjuan Wang,Ping Fan,Xingmin Cai,&Zhuanghao Zheng.(2008).Influence of plasma treatment on laser-induced damage characters of HfO2 thin films at 355nm.optics express(17).
MLA Dongping Zhang,et al."Influence of plasma treatment on laser-induced damage characters of HfO2 thin films at 355nm".optics express .17(2008).

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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