Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films
文献类型:期刊论文
作者 | Xiao QL(肖祁陵) ; He HB(贺洪波) ; Shao SY(邵淑英) ; Shao JD(邵建达) ; Fan ZX(范正修) |
刊名 | thin solid films
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出版日期 | 2009 |
期号 | 517 |
合作状况 | 其它 |
收录类别 | 其他 |
语种 | 中文 |
WOS记录号 | WOS:000266840100004 |
公开日期 | 2010-05-06 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6715] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Xiao QL,He HB,Shao SY,et al. Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films[J]. thin solid films,2009(517). |
APA | Xiao QL,He HB,Shao SY,Shao JD,&Fan ZX.(2009).Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films.thin solid films(517). |
MLA | Xiao QL,et al."Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films".thin solid films .517(2009). |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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