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Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films

文献类型:期刊论文

作者Xiao QL(肖祁陵) ; He HB(贺洪波) ; Shao SY(邵淑英) ; Shao JD(邵建达) ; Fan ZX(范正修)
刊名thin solid films
出版日期2009
期号517
合作状况其它
收录类别其他
语种中文
WOS记录号WOS:000266840100004
公开日期2010-05-06
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6715]  
专题上海光学精密机械研究所_光学薄膜技术研究与发展中心
推荐引用方式
GB/T 7714
Xiao QL,He HB,Shao SY,et al. Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films[J]. thin solid films,2009(517).
APA Xiao QL,He HB,Shao SY,Shao JD,&Fan ZX.(2009).Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films.thin solid films(517).
MLA Xiao QL,et al."Influences of deposition rate and oxygen partial pressure on residual stress and microstructure of YSZ thin films".thin solid films .517(2009).

入库方式: OAI收割

来源:上海光学精密机械研究所

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