Measurement technique for characterizing odd aberration of lithographic projection optics based on dipole illumination
文献类型：期刊论文
| 作者 | Peng B(彭勃) ; Wang XZ(王向朝) ; Qiu ZC(邱自成) ; Yuan QY(袁琼雁) |
| 刊名 | optics communications
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 283期号:11页码:2309-2317 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 光学 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| WOS记录号 | WOS:000277824200001 |
| 公开日期 | 2011-03-31 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/7081]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Peng B,Wang XZ,Qiu ZC,et al. Measurement technique for characterizing odd aberration of lithographic projection optics based on dipole illumination[J]. optics communications,2010,283(11):2309-2317. |
| APA | Peng B,Wang XZ,Qiu ZC,&Yuan QY.(2010).Measurement technique for characterizing odd aberration of lithographic projection optics based on dipole illumination.optics communications,283(11),2309-2317. |
| MLA | Peng B,et al."Measurement technique for characterizing odd aberration of lithographic projection optics based on dipole illumination".optics communications 283.11(2010):2309-2317. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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