Aberration induced intensity imbalance of alternating phase shifting mask in lithographic imaging
文献类型：期刊论文
| 作者 | Peng B(彭勃) ; Wang XZ(王向朝) ; Qiu ZC(邱自成) ; Yuan QY(袁琼雁) ; Cao YT(曹宇婷) |
| 刊名 | optics letters
 |
| 出版日期 | 2010 |
| 卷号 | 35期号:9页码:1404-1406 |
| 合作状况 | 其它 |
| 学科主题 | 光学 |
| 收录类别 | 其他 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-03-31 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/7082]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Peng B,Wang XZ,Qiu ZC,et al. Aberration induced intensity imbalance of alternating phase shifting mask in lithographic imaging[J]. optics letters,2010,35(9):1404-1406. |
| APA | Peng B,Wang XZ,Qiu ZC,Yuan QY,&Cao YT.(2010).Aberration induced intensity imbalance of alternating phase shifting mask in lithographic imaging.optics letters,35(9),1404-1406. |
| MLA | Peng B,et al."Aberration induced intensity imbalance of alternating phase shifting mask in lithographic imaging".optics letters 35.9(2010):1404-1406. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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