磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张文杰 ; 朱圣龙 ; 李瑛 ; 王福会 ; 何红波 |
| 刊名 | 电镀与精饰
 |
| 出版日期 | 2009-03-15 |
| 期号 | 03页码:157-160 |
| 关键词 | TiO2薄膜 磁控反应溅射 钇掺杂 光催化活性 降解 |
| 中文摘要 | 采用混合靶直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上溅射沉积了含有氧化钇的TiO2薄膜。X-射线光电子能谱分析结果表明,薄膜是由Y2O3和TiO2复合氧化物组成的。钇的存在会抑制薄膜中二氧化钛晶体的形成。薄膜的紫外可见光谱透射率略有下降,而反射率有所增加。钇的掺杂对二氧化钛薄膜的光催化活性起负作用,光催化降解甲基橙反应的活性随钇含量的增加而下降。 |
| 收录类别 | CNKI |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-05-05 ; 2011-05-19 |
| 源URL | [http://210.72.129.5/handle/321005/48352]  |
| 专题 | 沈阳应用生态研究所_沈阳应用生态研究所_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张文杰,朱圣龙,李瑛,等. 磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究[J]. 电镀与精饰,2009(03):157-160. |
| APA | 张文杰,朱圣龙,李瑛,王福会,&何红波.(2009).磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究.电镀与精饰(03),157-160. |
| MLA | 张文杰,et al."磁控反应溅射制备钇掺杂TiO_2薄膜的研究".电镀与精饰 .03(2009):157-160. |
入库方式： OAI收割
来源：沈阳应用生态研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。