中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究

文献类型:期刊论文

作者黄晨光; 段祝平; 吴承康
刊名材料科学与工艺
出版日期2003
卷号11期号:2页码:113-119
关键词等离子体喷涂 孔隙率 涂层生长
ISSN号1005-0299
其他题名Relationship between mesoscopic structures of plasma sprayedcoatings and some process parameters of plasma spray
中文摘要采用改进的颗粒沉积模型和一种新建议的循环算法,利用数值方法模拟了等离子体喷涂中涂层的生长过程及涂层的细观结构。数值模拟,主要包括了陶瓷液滴的高速变形与凝固、涂层材料的堆积、涂层中细胞空洞的形成与温度场的迭代计算等过程。研究结果表明,涂层中孔隙率的分布与一些关键工艺参数和基底表面状态等有关,液态陶瓷颗粒的直径和飞行速度的加大会引起涂层内孔隙率的增加,而基体温度和表面粗糙度的升高则有利于提高涂层的致密度。本文的研究结果将有助于定量或半定量地优化选取工艺参数以便获得所需的涂层结构和改善涂层的力学性能。
学科主题力学
收录类别CSCD
语种中文
CSCD记录号CSCD:1356112
公开日期2007-06-15 ; 2007-12-05 ; 2009-06-23
源URL[http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/16752]  
专题力学研究所_力学所知识产出(1956-2008)
推荐引用方式
GB/T 7714
黄晨光,段祝平,吴承康. 等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究[J]. 材料科学与工艺,2003,11(2):113-119.
APA 黄晨光,段祝平,&吴承康.(2003).等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究.材料科学与工艺,11(2),113-119.
MLA 黄晨光,et al."等离子体喷涂涂层细观结构与工艺相关性研究".材料科学与工艺 11.2(2003):113-119.

入库方式: OAI收割

来源:力学研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。