水中无机阴离子对UV/H_2O_2降解LAS的影响及机理
文献类型：期刊论文
| 作者 | 潘晶 ; 孙铁珩 ; 李海波 |
| 刊名 | 环境科学
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| 出版日期 | 2007-11-15 |
| 期号 | 11页码:7-10 |
| 关键词 | 无机阴离子 UV/H2O2 LAS 光降解 |
| 中文摘要 | 研究了UV/H2O2工艺对直链烷基苯磺酸钠(LAS)的去除效果以及水中常见无机阴离子对LAS降解的影响和机理.结果表明,UV/H2O2工艺可以有效的去除水中LAS,光降解过程符合一级反应动力学模型.在H2O2投加量为8 mg.L-1,14 W低压汞灯照射下,LAS在蒸馏水和自来水中光降解速率常数分别为0.0180 min-1和0.0122 min-1;NO3-、Cl-、SO42-和HCO3-对LAS光降解有抑制作用,4种离子在浓度分别为5、10、15 mmol.L-1时,对LAS光降解的抑制程度均为HCO3->NO3->Cl->SO42-;随着离子浓度增大,抑制作用增强;自来水中的光降解速率常数低于蒸馏水中的光降解速率常数是由于水中多种离子影响的结果. |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-05-05 |
| 源URL | [http://210.72.129.5/handle/321005/52192]  |
| 专题 | 沈阳应用生态研究所_沈阳应用生态研究所_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 潘晶,孙铁珩,李海波. 水中无机阴离子对UV/H_2O_2降解LAS的影响及机理[J]. 环境科学,2007(11):7-10. |
| APA | 潘晶,孙铁珩,&李海波.(2007).水中无机阴离子对UV/H_2O_2降解LAS的影响及机理.环境科学(11),7-10. |
| MLA | 潘晶,et al."水中无机阴离子对UV/H_2O_2降解LAS的影响及机理".环境科学 .11(2007):7-10. |
入库方式： OAI收割
来源：沈阳应用生态研究所
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