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高性能硅基锗光电探测器的研制

文献类型:学位论文

作者薛海韵
学位类别博士
答辩日期2011
授予单位中国科学院研究生院
授予地点北京
导师成步文
关键词硅基光子学 硅基锗光电探测器 吸收区倍增区分离的雪崩光电二极管 共振腔增强型 波导型
学位专业物理电子学
中文摘要

在信息产业、生物医学等科技领域越来越受关注的今天,新型光电子、光通信科技必将以更快的速度发展。Si基光电子集成采用成熟价廉的微电子加工工艺,将光学器件与多种功能的微电子电路集成,是实现光通信普及发展和光互连的有效途径。Si基光电探测器是Si基光通信系统的关键器件之一。随着近年来Si基Ge材料外延技术的突破性进展,Si基Ge光电探测器因为兼顾了Si基光电子集成和对光通讯波段(1.31和1.55μm)的高效探测,成为了当今研究的一大热点。
    
半导体光电探测器的性能与其结构密切相关。PIN型光电探测器是最常见的探测器,可以普遍应用于光通讯光互连系统;雪崩光电二极管(APD)因为具有较高的响应度和内部增益,在实现单光子探测方面具备很大的优越性,适用于当今迅猛发展的生物光子学和量子信息学;共振腔增强型的光电探测器(RCE-PD),集波长选择器、高速光信号接收器于一体,而且具备共振增强作用、高饱和功率输出等特点,是局域网、光纤入户和现代波分复用(Wavelength-Division Multiplexing,WDM)系统光通信网络的一种优选方案;波导结构探测器(Waveguide-PD)可以解除探测器的响应带宽和量子效率之间的矛盾,而且其结构特点更易于实现与调制器等光波导器件的集成,是片上光互连的首选探测器。
   
本论文围绕高性能Si基Ge光电探测器这一研究目标,开展了多种结构的光电探测器的研制,包括PIN型PD的研制及其优化、吸收区与倍增区分离结构(SACM)的Ge-on-Si APD、RCE-PD和Waveguide-PD,主要研究结果如下:

1.                成功研制了PIN型Ge-on-Si光电探测器,器件在-1V外加偏压下暗电流密度为46.6mA/cm2,在1.31μm和1.55μm波长下器件的量子效率分别为40%和17%;然后改进了实验方法,在制作器件之前将Ge-on-Si材料在850℃条件下快速退火1分钟,从而改善材料质量,器件的暗电流密度降低至4mA/cm2,这是目前国际上报道的最好结果之一。

2.                研制出了PIN型Ge-on-SOI光电探测器,在1.31μm和1.55μm波长的量子效率分别为62%和25%。在-3V外加偏压下,器件的3dB带宽为12.6GHz。25μm直径器件,3dB带宽更是达到了13.4GHz。同时,制作了均匀性很好的1×4探测器阵列,单个器件的3dB带宽达13.3GHz。

3.                在国际上首次研究了硅基锗光电探测器的高饱和特性。在-1V和-2V外加偏压下,探测器的1-dB小信号压缩电流分别为22mA和40mA,相应的光功率分别为67.5mW和110.5mW。

4.                成功研制了吸收区和倍增区分离的Si基Ge雪崩光电二极管,器件的穿通电压Vpt约为29V,击穿电压Vbd(暗电流等于100μA时的电压)为39.5V。在击穿电压附近,如39V时,SACM-Ge-on-Si APD的增益为40。

5.                解决了背面ICP深刻蚀工艺难题,成功制备了中心波长在1.55μm,量子效应高达62%的共振腔增强型Si基Ge光电探测器。

提出一种横向波导型结构Ge-on-SOI光电探测器结构,并对该结构探测器进行了理论计算。
学科主题半导体物理 ; 半导体器件 ; 光电子学
语种中文
公开日期2011-06-01
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/20714]  
专题半导体研究所_集成光电子学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
薛海韵. 高性能硅基锗光电探测器的研制[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2011.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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