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同轴谐振腔高阶模场分布对称性研究

文献类型:学位论文

作者曹静
学位类别硕士
答辩日期2008-05-22
授予单位中国科学院电子学研究所
授予地点电子学研究所
导师丁耀根
关键词多注速调管 高阶模TM310模 同轴谐振腔 场分布对称性 外观品质因数
其他题名Research on uniformity of field distribution of high order mode
中文摘要本论文主要研究了电感调谐圆柱形同轴谐振腔中高阶横磁模式TM310模的场分布及其对称性的变化规律。 推导了不规则圆周边界的同轴谐振腔中高阶模TMS10模式的谐振频率和特性阻抗相对值的计算公式,并得出了调谐膜片进行调谐时腔内TMS10模式场分布对称性的变化情况。 研究了无栅间隙双重入同轴谐振腔中高阶模TM310模的场分布情况,分析并获得了电感调谐对无栅间隙双重入同轴谐振腔中TM310模式的场分布的影响规律。 研究了由同轴谐振腔与波导终端孔耦合构成的多注速调管输出回路,对输出腔耦合孔过大引起TM310模式场分布不对称的现象进行了理论分析,并借助三维电磁场计算软件,得到既可以调节输出腔的外观品质因数,又可以保证TM310模式场分布对称的方法。 本论文还分析了一个实用的圆柱形同轴谐振腔钎焊前后谐振频率变化较大的原因,设计了该结构圆柱形同轴谐振腔的新冷测方法,消除了谐振腔钎焊前后的频率不一致性,并得到实验验证。
语种中文
公开日期2011-07-19
页码66
源URL[http://ir.ie.ac.cn/handle/80137/8107]  
专题电子学研究所_电子所博硕士学位论文_电子所博硕士学位论文_学位论文
推荐引用方式
GB/T 7714
曹静. 同轴谐振腔高阶模场分布对称性研究[D]. 电子学研究所. 中国科学院电子学研究所. 2008.

入库方式: OAI收割

来源:电子学研究所

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