离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究
文献类型：学位论文
| 作者 | 余琪1,2 |
| 学位类别 | 硕士 |
| 答辩日期 | 2017-05 |
| 授予单位 | 中国科学院研究生院 |
| 授予地点 | 北京 |
| 导师 | 官春林 |
| 关键词 | 薄膜应力，离子束溅射技术，光学薄膜，有限元分析 |
| 学科主题 | 光学 |
| 源URL | [http://ir.ioe.ac.cn/handle/181551/8136]  |
| 专题 | 光电技术研究所_光电技术研究所博硕士论文 |
| 作者单位 | 1.中国科学院光电技术研究所 2.中国科学院大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 余琪. 离子束溅射制备Ta2O5/SiO2薄膜的应力特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2017. |
入库方式： OAI收割
来源：光电技术研究所
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