冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备
文献类型:专利
作者 | 沈艳芳、熊天英、吴杰 |
发表日期 | 2016-08-17 |
专利国别 | 中国 |
专利类型 | 发明 |
权利人 | 沈艳芳、熊天英、吴杰 |
中文摘要 | 冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备 |
公开日期 | 2016-08-17 |
申请日期 | 2013-11-28 |
语种 | 中文 |
专利申请号 | 201310626680.3 |
源URL | [http://ir.imr.ac.cn/handle/321006/78815] |
专题 | 金属研究所_中国科学院金属研究所 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 沈艳芳、熊天英、吴杰. 冷喷涂制备可见光响应TiO2光催化涂层的方法及设备. 2016-08-17. |
入库方式: OAI收割
来源:金属研究所
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