157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 臧春雨 ; 曹望和 ; 石春山 |
| 刊名 | 材料导报
 |
| 出版日期 | 2003 |
| 卷号 | 17期号:6页码:34-36 |
| 关键词 | 半导体制造业 157nm紫外光刻技术 CaF_2晶体 双折射 |
| ISSN号 | 1005-023X |
| 通讯作者 | 臧春雨 |
| 中文摘要 | 介绍了半导体制进业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料。介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-09-13 ; 2011-06-09 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/18093]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 臧春雨,曹望和,石春山. 157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展[J]. 材料导报,2003,17(6):34-36. |
| APA | 臧春雨,曹望和,&石春山.(2003).157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展.材料导报,17(6),34-36. |
| MLA | 臧春雨,et al."157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展".材料导报 17.6(2003):34-36. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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