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软刻蚀及其应用

文献类型:期刊论文

作者王喆 ; 邢汝博 ; 韩艳春 ; 李滨耀
刊名化学通报
出版日期2002
期号9页码:606-613
关键词软刻蚀 微米加工 纳米加工 图案化 弹性模板
ISSN号0441-3776
通讯作者韩艳春
中文摘要软刻蚀是一类基于自组装和复制模塑等原理的非光刻微米和纳米加工方法。它为形成和制作微米、纳米图案提供了简便、有效、价廉的途径。在软刻蚀中 ,用一个表面带图案的弹性模板来实现图案的转移 ,其加工的分辨率可达 3 0nm~ 1 0 0 μm。软刻蚀是微接触印刷、复制模塑、转移微模塑、毛细微模塑、溶剂辅助微模塑等的总称。本文将简介软刻蚀的原理、方法以及它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面的应用。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2010-11-03 ; 2011-06-09
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/19087]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
王喆,邢汝博,韩艳春,等. 软刻蚀及其应用[J]. 化学通报,2002(9):606-613.
APA 王喆,邢汝博,韩艳春,&李滨耀.(2002).软刻蚀及其应用.化学通报(9),606-613.
MLA 王喆,et al."软刻蚀及其应用".化学通报 .9(2002):606-613.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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