杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄正国 ; 程龙 ; 孙勤枢 ; 刘柏峰 ; 董绍俊 |
| 刊名 | 分析化学
 |
| 出版日期 | 2000 |
| 卷号 | 28期号:11页码:1331-1335 |
| 关键词 | 电化学生长 多层膜 电催化 杂多酸 |
| ISSN号 | 0253-3820 |
| 通讯作者 | 董绍俊 |
| 中文摘要 | 通过电化学生长法在 4 氨基硫酚自组装膜修饰金电极上制备了包含杂多酸 (SiMo11VO5-4 0 和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极。用循环伏安法研究了该多层膜的电化学行为 ,结果表明Mo的第 3个还原峰随多层膜层数的增加显著增长 ,而另两个还原峰增长缓慢。该修饰电极的峰电位随pH的增加而线性负移 ,表明有氢离子参与杂多酸的氧化还原反应。该修饰电极对BrO-3 和HNO2 的还原反应有良好的催化作用 ,催化电流随着层数的增加而增长 ,并且Mo的第三个还原峰电流与CBrO-3 有良好的线性关系。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-04 ; 2011-06-09 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/20025]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄正国,程龙,孙勤枢,等. 杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为[J]. 分析化学,2000,28(11):1331-1335. |
| APA | 黄正国,程龙,孙勤枢,刘柏峰,&董绍俊.(2000).杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为.分析化学,28(11),1331-1335. |
| MLA | 黄正国,et al."杂多酸-聚(二烯丙基二甲基氯化铵)多层膜在4-氨基硫酚修饰金电极上的组装和电化学行为".分析化学 28.11(2000):1331-1335. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。