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高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究

文献类型:期刊论文

作者肖学山 ; 董远达 ; 乔秀颖 ; 莫志深 ; 王庆 ; 王献红 ; 徐晖
刊名上海大学学报(自然科学版)
出版日期2000
卷号6期号:5页码:468-470
关键词静电场 等规聚丙稀薄膜 球晶 树枝晶
ISSN号1007-2861
中文摘要使用SEM研究了在高真空强静电场下等规聚丙烯薄膜微晶生长的形态.实验发现,在高真空强静电场下,等规聚丙稀薄膜微晶沿静电场方向生长成树枝状,而未经静电场处理的薄膜,其微晶向四月均衡生长成树枝形球晶,无取向.
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2010-11-04 ; 2011-06-09
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/20327]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
肖学山,董远达,乔秀颖,等. 高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究[J]. 上海大学学报(自然科学版),2000,6(5):468-470.
APA 肖学山.,董远达.,乔秀颖.,莫志深.,王庆.,...&徐晖.(2000).高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究.上海大学学报(自然科学版),6(5),468-470.
MLA 肖学山,et al."高真空强静电场下等规聚丙稀薄膜微晶生长形态研究".上海大学学报(自然科学版) 6.5(2000):468-470.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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