高真空强静电场下聚合物薄膜微晶生长形态转变研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 肖学山 ; 董远达 ; 乔秀颖 ; 莫志深 ; 王献红 ; 王庆 ; 徐晖 |
| 刊名 | 高分子学报
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 期号 | 2页码:261-264 |
| 关键词 | 静电场 聚合物薄膜微晶 形态 |
| ISSN号 | 1000-3304 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-04 ; 2011-06-09 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/21155]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 肖学山,董远达,乔秀颖,等. 高真空强静电场下聚合物薄膜微晶生长形态转变研究[J]. 高分子学报,2001(2):261-264. |
| APA | 肖学山.,董远达.,乔秀颖.,莫志深.,王献红.,...&徐晖.(2001).高真空强静电场下聚合物薄膜微晶生长形态转变研究.高分子学报(2),261-264. |
| MLA | 肖学山,et al."高真空强静电场下聚合物薄膜微晶生长形态转变研究".高分子学报 .2(2001):261-264. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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