杂多酸-PDDA多层膜在4-ATP修饰金电极上的电化学性质
文献类型：期刊论文
| 作者 | 黄正国 ; 孙勤枢 ; 程龙 ; 刘柏峰 ; 董绍俊 |
| 刊名 | 济宁医学院学报
 |
| 出版日期 | 2001 |
| 卷号 | 24期号:1页码:24-26 |
| 关键词 | 电化学生长 多层膜 电催化 |
| ISSN号 | 1000-9760 |
| 中文摘要 | 目的 制备包含杂多酸 (SiMo11VO4 05-和Pr(SiMo7W4 O4 05-) )和聚合物阳离子PDDA的多层膜修饰电极 ,研究其电化学行为。方法 利用电化学生长法制备多层膜修饰电极 ,并用循环伏安法研究其电化学行为。结果 Mo的第三个还原峰随多层膜层数的增加显著增长 ,而另两个还原峰增长缓慢甚至不增长。多层膜修饰电极的峰电位随pH的增加而线性负移。结论 该多层膜的电化学性质不同于以往制备的多层膜 ,有其特殊性 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-04 ; 2011-06-09 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/21371]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 黄正国,孙勤枢,程龙,等. 杂多酸-PDDA多层膜在4-ATP修饰金电极上的电化学性质[J]. 济宁医学院学报,2001,24(1):24-26. |
| APA | 黄正国,孙勤枢,程龙,刘柏峰,&董绍俊.(2001).杂多酸-PDDA多层膜在4-ATP修饰金电极上的电化学性质.济宁医学院学报,24(1),24-26. |
| MLA | 黄正国,et al."杂多酸-PDDA多层膜在4-ATP修饰金电极上的电化学性质".济宁医学院学报 24.1(2001):24-26. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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