3种羧酸类基质的基质辅助激光解吸/电离质谱行为
文献类型:期刊论文
作者 | 郝春雁 ; 刘志强 ; 宋凤瑞 ; 季怡萍 ; 刘淑莹 |
刊名 | 分析化学
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出版日期 | 1998 |
卷号 | 26期号:2页码:241-241 |
关键词 | 激光解吸 基质辅助 羧酸类 应用化学研究 负离子谱 激光强度 电离质谱 中国科学院 |
ISSN号 | 0253-3820 |
通讯作者 | 刘淑莹 |
中文摘要 | 引言基质辅助激光解吸/电离质谱(MALDI-MS)这种新的“软电离”质谱技术,能够在短短10年间,得到广泛应用与迅速发展,很大程度上要归功于基质的辅助效应。基质在样品的解吸/电离过程中,起着关键作用。对基质本身MALDI-MS的研究,不仅可以、刻认识M |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-04 ; 2011-06-09 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/23185] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郝春雁,刘志强,宋凤瑞,等. 3种羧酸类基质的基质辅助激光解吸/电离质谱行为[J]. 分析化学,1998,26(2):241-241. |
APA | 郝春雁,刘志强,宋凤瑞,季怡萍,&刘淑莹.(1998).3种羧酸类基质的基质辅助激光解吸/电离质谱行为.分析化学,26(2),241-241. |
MLA | 郝春雁,et al."3种羧酸类基质的基质辅助激光解吸/电离质谱行为".分析化学 26.2(1998):241-241. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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