Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究
文献类型:期刊论文
作者 | 王岚 ; 鲍崇林 ; 李春鸿 ; 王给祥 |
刊名 | 真空科学与技术
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出版日期 | 1997 |
卷号 | 17期号:1页码:56-60 |
关键词 | 半导体薄膜 光电性能 溅射 二氧化锡化合物 喷涂热解法 |
ISSN号 | 1672-7126 |
中文摘要 | 采用喷涂热解法制备了以Cd2SnO4为代表的四种半导体薄膜,即Cd2SDO4,In2SnO5,TiSnO4及Zn2SnO4。测试了薄膜的半导体、光学和电学性能,得到了In2SnO5,Cd2SpO4薄膜电阻率的范围在10(-3)Ω·cm和高的透射比(可见光);TiSnO4薄膜高的反射比(红外光);同时,比较溅射法对结果进行了讨论。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-12-22 ; 2011-06-09 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/24961] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 王岚,鲍崇林,李春鸿,等. Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究[J]. 真空科学与技术,1997,17(1):56-60. |
APA | 王岚,鲍崇林,李春鸿,&王给祥.(1997).Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究.真空科学与技术,17(1),56-60. |
MLA | 王岚,et al."Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究".真空科学与技术 17.1(1997):56-60. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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