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Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究

文献类型:期刊论文

作者王岚 ; 鲍崇林 ; 李春鸿 ; 王给祥
刊名真空科学与技术
出版日期1997
卷号17期号:1页码:56-60
关键词半导体薄膜 光电性能 溅射 二氧化锡化合物 喷涂热解法
ISSN号1672-7126
中文摘要采用喷涂热解法制备了以Cd2SnO4为代表的四种半导体薄膜,即Cd2SDO4,In2SnO5,TiSnO4及Zn2SnO4。测试了薄膜的半导体、光学和电学性能,得到了In2SnO5,Cd2SpO4薄膜电阻率的范围在10(-3)Ω·cm和高的透射比(可见光);TiSnO4薄膜高的反射比(红外光);同时,比较溅射法对结果进行了讨论。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2010-12-22 ; 2011-06-09
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/24961]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
王岚,鲍崇林,李春鸿,等. Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究[J]. 真空科学与技术,1997,17(1):56-60.
APA 王岚,鲍崇林,李春鸿,&王给祥.(1997).Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究.真空科学与技术,17(1),56-60.
MLA 王岚,et al."Cd_2SnO_4等四种半导体薄膜制备及性能研究".真空科学与技术 17.1(1997):56-60.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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