CCl_4等离子体表面改性聚三甲硅基丙炔膜
文献类型：期刊论文
| 作者 | 邱雪鹏 ; 许观藩 ; 林晓 ; 郑国栋 ; 徐纪平 |
| 刊名 | 应用化学
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| 出版日期 | 1996 |
| 卷号 | 13期号:4页码:101-103 |
| 关键词 | 聚三甲硅基丙炔 等离子体改性 氧氮气体透过选择性 |
| ISSN号 | 1000-0518 |
| 通讯作者 | 邱雪鹏 |
| 中文摘要 | ＣＣｌ_４等离子体表面改性聚三甲硅基丙炔膜邱雪鹏，许观藩，林晓，郑国栋，徐纪平（中国科学院长春应用化学研究所长春１３００２２）关键词聚三甲硅基丙炔，等离子体改性，氧氮气体透过选择性聚三甲硅基丙炔（ＰＴＭＳＰ）具有优异的气体透过性，但其氧氮选择性差，可?.. |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-12-22 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/26143]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 邱雪鹏,许观藩,林晓,等. CCl_4等离子体表面改性聚三甲硅基丙炔膜[J]. 应用化学,1996,13(4):101-103. |
| APA | 邱雪鹏,许观藩,林晓,郑国栋,&徐纪平.(1996).CCl_4等离子体表面改性聚三甲硅基丙炔膜.应用化学,13(4),101-103. |
| MLA | 邱雪鹏,et al."CCl_4等离子体表面改性聚三甲硅基丙炔膜".应用化学 13.4(1996):101-103. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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