光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 侯豪情 ; 李悦生 ; 丁孟贤 ; 韩阶平 |
| 刊名 | 功能高分子学报
 |
| 出版日期 | 1996 |
| 卷号 | 9期号:2页码:279-288 |
| 关键词 | 光敏聚酰亚胺 正性光刻胶 负性光刻胶 化学增幅抗蚀剂 |
| ISSN号 | 1006-3080 |
| 通讯作者 | 丁孟贤 |
| 中文摘要 | 从负性、正性和化学增幅三个方面阐述了光敏聚酰亚胺（ＰＳＰＩ）几十年来的研究和发展现状，并做了一定深度的讨论。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-12-22 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/26243]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 侯豪情,李悦生,丁孟贤,等. 光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展[J]. 功能高分子学报,1996,9(2):279-288. |
| APA | 侯豪情,李悦生,丁孟贤,&韩阶平.(1996).光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展.功能高分子学报,9(2),279-288. |
| MLA | 侯豪情,et al."光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展".功能高分子学报 9.2(1996):279-288. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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