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光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展

文献类型:期刊论文

作者侯豪情 ; 李悦生 ; 丁孟贤 ; 韩阶平
刊名功能高分子学报
出版日期1996
卷号9期号:2页码:279-288
关键词光敏聚酰亚胺 正性光刻胶 负性光刻胶 化学增幅抗蚀剂
ISSN号1006-3080
通讯作者丁孟贤
中文摘要从负性、正性和化学增幅三个方面阐述了光敏聚酰亚胺(PSPI)几十年来的研究和发展现状,并做了一定深度的讨论。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2010-12-22 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/26243]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
侯豪情,李悦生,丁孟贤,等. 光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展[J]. 功能高分子学报,1996,9(2):279-288.
APA 侯豪情,李悦生,丁孟贤,&韩阶平.(1996).光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展.功能高分子学报,9(2),279-288.
MLA 侯豪情,et al."光敏聚酰亚胺合成方法及应用的最新进展".功能高分子学报 9.2(1996):279-288.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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