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高温高压下立方氮化硼晶体的生长机制

文献类型:期刊论文

作者周艳平,闫学伟,马贤峰,赵廷河
刊名无机材料学报
出版日期1995
卷号10期号:4页码:391-398
关键词高温高压 cBN 位错生长机制 表面构造 相变
ISSN号1000-324X
中文摘要在4.5~5.0GPa,1500~1800℃范围内,对在Li基复合氮化物或氮硼化物的催化体系中以及其中添加Li8SiN4后合成cBN进行了研究,探讨了cBN晶体的表面构造和生长机制,研究了由六方氨化硼向立方氮化硼转变过程中硅的存在行为.本实验中合成的立方氮化硼为具有光泽的棕色透明单晶.
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2010-12-30 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/27179]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
周艳平,闫学伟,马贤峰,赵廷河. 高温高压下立方氮化硼晶体的生长机制[J]. 无机材料学报,1995,10(4):391-398.
APA 周艳平,闫学伟,马贤峰,赵廷河.(1995).高温高压下立方氮化硼晶体的生长机制.无机材料学报,10(4),391-398.
MLA 周艳平,闫学伟,马贤峰,赵廷河."高温高压下立方氮化硼晶体的生长机制".无机材料学报 10.4(1995):391-398.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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