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Nafion-玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究

文献类型:期刊论文

作者张平元 ; 张月霞 ; 刘柏峰 ; 董绍俊
刊名分析化学
出版日期1993
卷号21期号:4页码:405-409
关键词Nafion膜 化学修饰电极 阴极溶出伏安法
ISSN号0253-3820
通讯作者董绍俊
中文摘要研究并提出在HNO_3-NaCl-硫脲(Tu)体系中,Nafion/玻碳(Gc)修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量鉍的方法。表明Tu具络合协同作用,使Nation阳离子交换能力提高。本法检出限为5×10~(-9)mol/L Bi~(3+)(td:5min),电极表面易于再生,文中研究了电极过程机理,计算得[Bi(Tu)_6]~(3+)在Nafion膜中的分配系数(K_D),扩散系数(D)和选择性系数(K_H~[Bi(Tu)_6~+]~(3+))分别为7.57×10~5,5.9×10~(-11)cm~2/s及3.39。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-01-19 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/36491]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
张平元,张月霞,刘柏峰,等. Nafion-玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究[J]. 分析化学,1993,21(4):405-409.
APA 张平元,张月霞,刘柏峰,&董绍俊.(1993).Nafion-玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究.分析化学,21(4),405-409.
MLA 张平元,et al."Nafion-玻碳修饰电极阴极溶出伏安法测定痕量铋的研究".分析化学 21.4(1993):405-409.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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