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等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔膜的气体透过性

文献类型:期刊论文

作者林晓 ; 陈捷 ; 徐纪平
刊名辐射研究与辐射工艺学报
出版日期1993
卷号11期号:1页码:40-43
关键词聚三甲基甲硅烷基丙炔 等离子体处理 八氟环丁烷 氧气 氮气 气体透过性
ISSN号1000-3436
中文摘要研究了八氟环丁烷(OFCB)等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔(PTMSP)膜的气体透过性及等离子体处理条件对膜透气性的影响。改性膜的氧氮选择性有了显著提高。处理条件为功率250W,单体压力5.2 Pa,处理时间5min,膜的氧气透过系数和氧氮选择系数分别为1020 barrer和4.18。改性膜的表面组成用XPS谱进行了表征。XPS谱分析表明,改性膜表面形成了含氟致密薄层,氧氮选择性与F/C元素比没有直接关系。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-01-19 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/36813]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
林晓,陈捷,徐纪平. 等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔膜的气体透过性[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1993,11(1):40-43.
APA 林晓,陈捷,&徐纪平.(1993).等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔膜的气体透过性.辐射研究与辐射工艺学报,11(1),40-43.
MLA 林晓,et al."等离子体改性聚三甲基甲硅烷基丙炔膜的气体透过性".辐射研究与辐射工艺学报 11.1(1993):40-43.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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