取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响
文献类型:期刊论文
作者 | 林晓 ; 陈捷 ; 徐纪平 |
刊名 | 辐射研究与辐射工艺学报
![]() |
出版日期 | 1993 |
卷号 | 11期号:3页码:151-155 |
关键词 | 有机硅 等离子体聚合 IR 复合膜 气体透过性 |
ISSN号 | 1000-3436 |
中文摘要 | 应用IR和XPS对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)、二甲基乙烯基乙氧基硅烷(DMVEOS)和乙烯基三乙氧基硅烷(VTEOS)的等离子体聚合膜结构进行了表征。研究了乙氧取代基对聚合物化学组成和性能的影响。取代基对聚合膜性能的影响,表现在聚合膜表面能和气体透过性上。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-01-19 ; 2011-06-10 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/36823] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 林晓,陈捷,徐纪平. 取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1993,11(3):151-155. |
APA | 林晓,陈捷,&徐纪平.(1993).取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响.辐射研究与辐射工艺学报,11(3),151-155. |
MLA | 林晓,et al."取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响".辐射研究与辐射工艺学报 11.3(1993):151-155. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。