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取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响

文献类型:期刊论文

作者林晓 ; 陈捷 ; 徐纪平
刊名辐射研究与辐射工艺学报
出版日期1993
卷号11期号:3页码:151-155
关键词有机硅 等离子体聚合 IR 复合膜 气体透过性
ISSN号1000-3436
中文摘要应用IR和XPS对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)、二甲基乙烯基乙氧基硅烷(DMVEOS)和乙烯基三乙氧基硅烷(VTEOS)的等离子体聚合膜结构进行了表征。研究了乙氧取代基对聚合物化学组成和性能的影响。取代基对聚合膜性能的影响,表现在聚合膜表面能和气体透过性上。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-01-19 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/36823]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
林晓,陈捷,徐纪平. 取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1993,11(3):151-155.
APA 林晓,陈捷,&徐纪平.(1993).取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响.辐射研究与辐射工艺学报,11(3),151-155.
MLA 林晓,et al."取代基对等离子体聚合物组成和性能的影响".辐射研究与辐射工艺学报 11.3(1993):151-155.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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