Epitaxial integration of tetragonal BiFeO3 with silicon for nonvolatile memory applications
文献类型：期刊论文
| 作者 | Jingbin Zhu; Zhigang Yin; Zhen Fu; Yajuan Zhao; Xingwang Zhang; Xin Liu; Jingbi You; Xingxing Li; Junhua Meng; Heng Liu |
| 刊名 | Journal of Crystal Growth
 |
| 出版日期 | 2017 |
| 卷号 | 459页码:178–184 |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 公开日期 | 2018-06-01 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/28517]  |
| 专题 | 半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Jingbin Zhu,Zhigang Yin,Zhen Fu,et al. Epitaxial integration of tetragonal BiFeO3 with silicon for nonvolatile memory applications[J]. Journal of Crystal Growth,2017,459:178–184. |
| APA | Jingbin Zhu.,Zhigang Yin.,Zhen Fu.,Yajuan Zhao.,Xingwang Zhang.,...&Jinliang Wu.(2017).Epitaxial integration of tetragonal BiFeO3 with silicon for nonvolatile memory applications.Journal of Crystal Growth,459,178–184. |
| MLA | Jingbin Zhu,et al."Epitaxial integration of tetragonal BiFeO3 with silicon for nonvolatile memory applications".Journal of Crystal Growth 459(2017):178–184. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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