基于线性规划的光刻机光源优化方法
文献类型：会议论文
| 作者 | 李思坤; 王磊; 杨朝兴; 王向朝 |
| 出版日期 | 2016 |
| 中文摘要 | 光刻技术是极大规模集成电路制造的关键技术之一。光刻分辨率决定集成电路芯片的特征尺寸。在曝光波长与数值孔径一定的情况下,需通过改善光刻工艺和采用分辨率增强技术减小工艺因子,提高光刻分辨率。光源优化(Source Optimization,SO)技术是一种重要的分辨率增强技术。由于不需要重新制造掩模,SO具有成本低、实现速度快的优点。自离轴照明技术发明以来,已有不少学者对SO进行了研究。近来,Flex Ray等自由 |
| 会议录 | 第十六届全国光学测试学术交流会摘要集
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| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/27473]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学与光电技术实验室 |
| 作者单位 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 李思坤,王磊,杨朝兴,等. 基于线性规划的光刻机光源优化方法[C]. 见:. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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