在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王世才 ; 周茂堂 ; 陈捷 ; 郭作军 |
| 刊名 | 辐射研究与辐射工艺学报
 |
| 出版日期 | 1992 |
| 卷号 | 10期号:2页码:87-91 |
| 关键词 | 等离子体聚合 γ-氨丙基三乙氧基硅烷 表面能 |
| ISSN号 | 1000-3436 |
| 中文摘要 | 在外部电容耦合装置中进行了γ-氨丙基三乙氧基硅烷(APTEOS)的聚合,研究了系统的压力、放电功率、基片距离和等离子气体对聚合膜淀积速率以及对聚合物的结构与性能的影响。应用元素分析、红外光谱、X射线衍射研究了聚合物的结构,并测定了热失重、接触角和表面能。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-01-19 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/37723]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王世才,周茂堂,陈捷,等. 在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1992,10(2):87-91. |
| APA | 王世才,周茂堂,陈捷,&郭作军.(1992).在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能.辐射研究与辐射工艺学报,10(2),87-91. |
| MLA | 王世才,et al."在辉光放电中γ-氨丙基三乙氧基硅烷的聚合及其聚合物的结构和性能".辐射研究与辐射工艺学报 10.2(1992):87-91. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。