中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜

文献类型:期刊论文

作者林晓 ; 肖军 ; 余亚丽 ; 陈捷 ; 郑国栋 ; 徐纪平
刊名功能高分子学报
出版日期1992
卷号5期号:4页码:306-311
关键词PTMSP 等离子体表面氟化 氧氮选择性 XPS
ISSN号1008-9357
中文摘要本文对聚三甲基硅基丙炔(PTMSP)膜进行CF_4等离子体表面氟化研究。改性的PTMSP膜氧氮选择性显著提高(P_(O_2)/P_(N_2)=4-5,P_(O_2)=10~2-10~3barrer)。等离子体改性条件,如处理时间、单体压力、放电功率对PTMSP膜透气性的影响进行了研究。XPS谱分析表明改性后,膜表层化学组成发生了显著变化、碳硅含量大幅度减小,氟含量随着处理程度的增加而增加,氟碳比与膜的选择性有着密切的关系,当 F/C>1时,膜的P_(O_2)/P_(N_2)可达4以上。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-01-19 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/37779]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
林晓,肖军,余亚丽,等. CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜[J]. 功能高分子学报,1992,5(4):306-311.
APA 林晓,肖军,余亚丽,陈捷,郑国栋,&徐纪平.(1992).CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜.功能高分子学报,5(4),306-311.
MLA 林晓,et al."CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜".功能高分子学报 5.4(1992):306-311.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。