CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜
文献类型:期刊论文
作者 | 林晓 ; 肖军 ; 余亚丽 ; 陈捷 ; 郑国栋 ; 徐纪平 |
刊名 | 功能高分子学报
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出版日期 | 1992 |
卷号 | 5期号:4页码:306-311 |
关键词 | PTMSP 等离子体表面氟化 氧氮选择性 XPS |
ISSN号 | 1008-9357 |
中文摘要 | 本文对聚三甲基硅基丙炔(PTMSP)膜进行CF_4等离子体表面氟化研究。改性的PTMSP膜氧氮选择性显著提高(P_(O_2)/P_(N_2)=4-5,P_(O_2)=10~2-10~3barrer)。等离子体改性条件,如处理时间、单体压力、放电功率对PTMSP膜透气性的影响进行了研究。XPS谱分析表明改性后,膜表层化学组成发生了显著变化、碳硅含量大幅度减小,氟含量随着处理程度的增加而增加,氟碳比与膜的选择性有着密切的关系,当 F/C>1时,膜的P_(O_2)/P_(N_2)可达4以上。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-01-19 ; 2011-06-10 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/37779] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 林晓,肖军,余亚丽,等. CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜[J]. 功能高分子学报,1992,5(4):306-311. |
APA | 林晓,肖军,余亚丽,陈捷,郑国栋,&徐纪平.(1992).CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜.功能高分子学报,5(4),306-311. |
MLA | 林晓,et al."CF_4等离子体表面氟化PTMSP膜".功能高分子学报 5.4(1992):306-311. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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