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InGaN量子阱及薄膜材料特性研究

文献类型:学位论文

作者刘炜
答辩日期2018-06-04
文献子类博士后
授予单位中国科学院研究生院
授予地点北京
导师谭平恒 ; 赵德刚
关键词Ingan 量子阱 薄膜 极化效应 局域态 本底载流子浓度
学位专业微电子与固体电子学
学科主题半导体物理 ; 半导体材料 ; 半导体器件 ; 光电子学
公开日期2018-06-20
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/28647]  
专题半导体研究所_集成光电子学国家重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
刘炜. InGaN量子阱及薄膜材料特性研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2018.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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