取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响
文献类型:期刊论文
| 作者 | 周茂堂 ; 王世才 ; 颜文革 ; 陈捷 |
| 刊名 | 高分子材料科学与工程
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| 出版日期 | 1991 |
| 期号 | 5页码:23-27 |
| 关键词 | 取代基 等离子聚合 有机硅聚合物 |
| ISSN号 | 1000-7555 |
| 中文摘要 | 在外部电容耦合的辉光放电装置中进行了三乙氧基乙基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷和三甲基乙烯基硅烷的聚合。研究了体系压力、放电功率、等离子气体(N_2、Ar)及基片距离对淀积速率的影响,重点讨论了取代基的影响。并用元素分析、红外光谱和热重分析等方法研究了聚合物的结构与性能。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-03-03 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/38735] ![]() |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周茂堂,王世才,颜文革,等. 取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响[J]. 高分子材料科学与工程,1991(5):23-27. |
| APA | 周茂堂,王世才,颜文革,&陈捷.(1991).取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响.高分子材料科学与工程(5),23-27. |
| MLA | 周茂堂,et al."取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响".高分子材料科学与工程 .5(1991):23-27. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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