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取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响

文献类型:期刊论文

作者周茂堂 ; 王世才 ; 颜文革 ; 陈捷
刊名高分子材料科学与工程
出版日期1991
期号5页码:23-27
关键词取代基 等离子聚合 有机硅聚合物
ISSN号1000-7555
中文摘要在外部电容耦合的辉光放电装置中进行了三乙氧基乙基硅烷、三乙氧基乙烯基硅烷和三甲基乙烯基硅烷的聚合。研究了体系压力、放电功率、等离子气体(N_2、Ar)及基片距离对淀积速率的影响,重点讨论了取代基的影响。并用元素分析、红外光谱和热重分析等方法研究了聚合物的结构与性能。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-03-03 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/38735]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
周茂堂,王世才,颜文革,等. 取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响[J]. 高分子材料科学与工程,1991(5):23-27.
APA 周茂堂,王世才,颜文革,&陈捷.(1991).取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响.高分子材料科学与工程(5),23-27.
MLA 周茂堂,et al."取代基对有机硅化合物等离子体聚合规律的影响".高分子材料科学与工程 .5(1991):23-27.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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