中国科学院机构知识库网格
Chinese Academy of Sciences Institutional Repositories Grid
等离子体聚合膜的电学性质研究——Ⅰ.TCNQ聚合膜的结构和电学性质

文献类型:期刊论文

作者俞青松 ; 陈捷 ; 王佛松 ; 长田义仁
刊名应用化学
出版日期1991
卷号8期号:2页码:42-46
关键词四氰代对二次甲基苯醌 等离子体聚合 半导体薄膜 整流性质 光生伏打效应 光电导性质
ISSN号1000-0518
通讯作者俞青松
中文摘要本文采用内部电极、电容耦合式钟罩型射频等离子体聚合装置,首次进行了四氰代对二次甲基苯醌(TCNQ)的等离子体聚合,得到了电导率为10~(-8)~10~(-6)Scm~(-1)的聚合物半导体薄膜。由这些聚合物薄膜制备的Al/聚合膜/ITO(铟锡氧化物透明电极)夹层元件显示出整流特性和光生伏打效应。这种聚合物薄膜还具有光电导性质。红外光谱(IR)、紫外光谱(UV)的研究结果表明,优良的半导体特性归因于聚合膜中存在有较大范围的π电子共轭结构。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-03-03 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/38833]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
俞青松,陈捷,王佛松,等. 等离子体聚合膜的电学性质研究——Ⅰ.TCNQ聚合膜的结构和电学性质[J]. 应用化学,1991,8(2):42-46.
APA 俞青松,陈捷,王佛松,&长田义仁.(1991).等离子体聚合膜的电学性质研究——Ⅰ.TCNQ聚合膜的结构和电学性质.应用化学,8(2),42-46.
MLA 俞青松,et al."等离子体聚合膜的电学性质研究——Ⅰ.TCNQ聚合膜的结构和电学性质".应用化学 8.2(1991):42-46.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

浏览0
下载0
收藏0
其他版本

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。