二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合
文献类型：期刊论文
| 作者 | 周和平 ; 周茂堂 ; 王世才 ; 陈捷 |
| 刊名 | 辐射研究与辐射工艺学报
 |
| 出版日期 | 1991 |
| 卷号 | 9期号:4页码:242-245 |
| 关键词 | 二甲基乙烯基乙氧基硅烷 等离子体聚合 接触角 |
| ISSN号 | 1000-3436 |
| 中文摘要 | 在外部电极电容耦合式辉光放电装置中进行了二甲基乙烯基乙氧基硅烷(VDMES)的等离子体聚合,考察了压力、功率以及基片距离对聚合速率的影响。用红外光谱和X射线光电子能谱(XPS)等方法研究了聚合物的结构,并研究了聚合物的热稳定性及表面性能。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-03-03 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/38957]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周和平,周茂堂,王世才,等. 二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1991,9(4):242-245. |
| APA | 周和平,周茂堂,王世才,&陈捷.(1991).二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合.辐射研究与辐射工艺学报,9(4),242-245. |
| MLA | 周和平,et al."二甲基乙烯基乙氧基硅烷等离子体聚合".辐射研究与辐射工艺学报 9.4(1991):242-245. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。