辉光放电中处理聚四氟乙烯表面——Ⅱ.ESR研究PTFE膜自由基
文献类型:期刊论文
作者 | 周茂堂 ; 刘桂珍 ; 詹瑞云 ; 王世才 ; 陈捷 |
刊名 | 波谱学杂志
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出版日期 | 1990 |
卷号 | 7期号:4页码:427-432 |
关键词 | 辉光放电 PTFE 自由基 ESR |
ISSN号 | 1000-4556 |
中文摘要 | 在外部电极电容耦合式反应装置中,对聚四氟乙烯(PTFE)膜进行了辉光放电处理。通过电子自旋共振(ESR)谱研究了PTFE在处理过程中所产生的自由基,着重讨论了温度对ESR谱的影响。最后,以DPPH为内标,测定了处理后PTFE膜的自由基浓度,并考察了自由基在空气中的衰减情况。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-03-03 ; 2011-06-10 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/39683] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 周茂堂,刘桂珍,詹瑞云,等. 辉光放电中处理聚四氟乙烯表面——Ⅱ.ESR研究PTFE膜自由基[J]. 波谱学杂志,1990,7(4):427-432. |
APA | 周茂堂,刘桂珍,詹瑞云,王世才,&陈捷.(1990).辉光放电中处理聚四氟乙烯表面——Ⅱ.ESR研究PTFE膜自由基.波谱学杂志,7(4),427-432. |
MLA | 周茂堂,et al."辉光放电中处理聚四氟乙烯表面——Ⅱ.ESR研究PTFE膜自由基".波谱学杂志 7.4(1990):427-432. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
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