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乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能

文献类型:期刊论文

作者颜文革 ; 陈捷 ; 卢丽珍 ; 王世才
刊名高分子学报
出版日期1990
期号1页码:36-44
关键词等离子体聚合 乙烯基三甲基硅烷 IR XPS
ISSN号1000-3304
中文摘要采用外部电极电容耦合高频等离子体装置对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)进行等离子体聚合。用IR、XPS、PGC/MS、X-ray、ESR和元素分析等方法对聚合物结构进行表征,并推断聚合反应历程。应用TG研究聚合物的热性能。通过X-ray证实聚合物为非晶结构。在无添加气体存在时聚合,XPS测试结果表明产物中有氧嵌入,且聚合物的C/Si比总的说来比单体的C/Si比低。TG的测试结果表明聚合物膜具有优良的热稳定性。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-03-03 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/39743]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
颜文革,陈捷,卢丽珍,等. 乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能[J]. 高分子学报,1990(1):36-44.
APA 颜文革,陈捷,卢丽珍,&王世才.(1990).乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能.高分子学报(1),36-44.
MLA 颜文革,et al."乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能".高分子学报 .1(1990):36-44.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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