乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能
文献类型:期刊论文
作者 | 颜文革 ; 陈捷 ; 卢丽珍 ; 王世才 |
刊名 | 高分子学报
![]() |
出版日期 | 1990 |
期号 | 1页码:36-44 |
关键词 | 等离子体聚合 乙烯基三甲基硅烷 IR XPS |
ISSN号 | 1000-3304 |
中文摘要 | 采用外部电极电容耦合高频等离子体装置对乙烯基三甲基硅烷(VTMS)进行等离子体聚合。用IR、XPS、PGC/MS、X-ray、ESR和元素分析等方法对聚合物结构进行表征,并推断聚合反应历程。应用TG研究聚合物的热性能。通过X-ray证实聚合物为非晶结构。在无添加气体存在时聚合,XPS测试结果表明产物中有氧嵌入,且聚合物的C/Si比总的说来比单体的C/Si比低。TG的测试结果表明聚合物膜具有优良的热稳定性。 |
收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2011-03-03 ; 2011-06-10 |
源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/39743] ![]() |
专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 颜文革,陈捷,卢丽珍,等. 乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能[J]. 高分子学报,1990(1):36-44. |
APA | 颜文革,陈捷,卢丽珍,&王世才.(1990).乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能.高分子学报(1),36-44. |
MLA | 颜文革,et al."乙烯基三甲基硅烷等离子体聚合物膜的结构与性能".高分子学报 .1(1990):36-44. |
入库方式: OAI收割
来源:长春应用化学研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。