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HMDSO和TFM混合气体等离子体聚合膜的结构与性能

文献类型:期刊论文

作者林晓 ; 陈捷 ; 徐纪平
刊名辐射研究与辐射工艺学报
出版日期1990
卷号8期号:4页码:231-234
关键词等离子体聚合 HMDSO TFM XPS 接触角 气体分离膜
ISSN号1000-3436
中文摘要在钟罩式内极反应器中进行了六甲基二硅氧烷(HMDSO)和四氟化碳(TFM)混合气体等离子体聚合。用IR、XPS、X射线对聚合膜结构进行了表征。等离子体共聚合膜中含有Si和F,聚合膜中元素组成依赖于起始混合气体单体的比,Si/C元素比随着混合气体中TFM浓度增加而减小,而F/C比增大。测定了复合膜的气体透过性,等离子体共聚合方法是制备气体分离膜的可行方法。同时,还测定了等离子体聚合膜的接触角,并计算了表面能。
收录类别CSCD收录国内期刊论文
语种中文
公开日期2011-03-03 ; 2011-06-10
源URL[http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/40115]  
专题长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
林晓,陈捷,徐纪平. HMDSO和TFM混合气体等离子体聚合膜的结构与性能[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1990,8(4):231-234.
APA 林晓,陈捷,&徐纪平.(1990).HMDSO和TFM混合气体等离子体聚合膜的结构与性能.辐射研究与辐射工艺学报,8(4),231-234.
MLA 林晓,et al."HMDSO和TFM混合气体等离子体聚合膜的结构与性能".辐射研究与辐射工艺学报 8.4(1990):231-234.

入库方式: OAI收割

来源:长春应用化学研究所

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