十六烷基吡啶在玻碳电极表面上的吸附过程
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱永春 ; 董绍俊 |
| 刊名 | 应用化学
 |
| 出版日期 | 1989 |
| 卷号 | 6期号:6页码:48-52 |
| 关键词 | 交流阻抗测量 表面活性剂 溴化十六烷基吡啶 电化学分析 表面吸附 |
| ISSN号 | 1000-0518 |
| 通讯作者 | 董绍俊 |
| 中文摘要 | 本文用交流阻抗法在长光程薄层光谱电解池中研究了溴化十六烷基吡啶(CPyBr)在玻碳电极上的吸附过程。在复数平面图的高频区获得了与电解池结构电容有关的半圆,低频区获得了与CPyBr吸附有关的阻抗及Warburg阻抗,建立了CPyBr的单分子层吸附模型及电极过程的交流阻抗等效电路。理论预测与实验数据吻合较好。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-03-03 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/40877]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱永春,董绍俊. 十六烷基吡啶在玻碳电极表面上的吸附过程[J]. 应用化学,1989,6(6):48-52. |
| APA | 朱永春,&董绍俊.(1989).十六烷基吡啶在玻碳电极表面上的吸附过程.应用化学,6(6),48-52. |
| MLA | 朱永春,et al."十六烷基吡啶在玻碳电极表面上的吸附过程".应用化学 6.6(1989):48-52. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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