在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合
文献类型：期刊论文
| 作者 | 余自力 ; 叶牧 ; 卢丽珍 ; 陈捷 |
| 刊名 | 辐射研究与辐射工艺学报
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| 出版日期 | 1989 |
| 卷号 | 7期号:3页码:10-14 |
| 关键词 | 六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合聚六甲基环三硅氧烷的接触角 聚六甲基环三硅氧烷的表面能 |
| ISSN号 | 1000-3436 |
| 中文摘要 | 用外部电极电容耦合式辉光放电装置研究了六甲基环三硅氧烷在NH_3或N_2中的等离子体聚合。用红外光谱,X线光电子能谱研究了聚合物结构,并测定了聚合物的热稳定性及对水的接触角,计算了聚合物的表面能。结果表明,NH_3和N_2都参加了聚合反应,N在聚合物中的存在形式主要为C=NH,随NH_3在反应体系中浓度的增加,聚合物中的N含量也增加,在NH_3中制备的聚合膜有很好的疏水性。 |
| 收录类别 | CSCD收录国内期刊论文 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2011-03-03 ; 2011-06-10 |
| 源URL | [http://ir.ciac.jl.cn/handle/322003/40937]  |
| 专题 | 长春应用化学研究所_长春应用化学研究所知识产出_期刊论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 余自力,叶牧,卢丽珍,等. 在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合[J]. 辐射研究与辐射工艺学报,1989,7(3):10-14. |
| APA | 余自力,叶牧,卢丽珍,&陈捷.(1989).在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合.辐射研究与辐射工艺学报,7(3),10-14. |
| MLA | 余自力,et al."在含氮气体中六甲基环三硅氧烷的等离子体聚合".辐射研究与辐射工艺学报 7.3(1989):10-14. |
入库方式： OAI收割
来源：长春应用化学研究所
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