磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 孙钢杰 ; 贾全杰; 张天冲; 王焕华; 伊福廷
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| 出版日期 | 2016 |
| 通讯作者 | 孙钢杰 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/260465]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 作者单位 | 中国科学院高能物理研究所 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 孙钢杰,贾全杰,张天冲,等. 磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响[J],2016. |
| APA | 孙钢杰,贾全杰,张天冲,王焕华,&伊福廷.(2016).磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响.. |
| MLA | 孙钢杰,et al."磁控溅射偏压对Cr薄膜密度以及表面形貌的影响".(2016). |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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