ECR Plasma Cleaning: An In-situ Processing Technique for RF Cavities
文献类型：会议论文
| 作者 | G.Wu; H.Jiang; T.Khabiboulline; I.Pechenezhskiy; T.Koeth; J.Reid; W.Muranyi; B.Tennis; E.Harms; Y.Terechkine |
| 出版日期 | 2007 |
| 会议日期 | 2007 |
| 会议地点 | China |
| 会议录 | Proceedings of the 13th International Conference on RF Superconductivity
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| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/259481]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_SRF |
| 作者单位 | Fermilab |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | G.Wu,H.Jiang,T.Khabiboulline,et al. ECR Plasma Cleaning: An In-situ Processing Technique for RF Cavities[C]. 见:. China. 2007. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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