Optimization of Ar/CL2 Plasma Parameters Used for SRF Cavity Etching
文献类型：会议论文
| 作者 | J.Upadhyay; M.Nikolić; S.Popović; L.Vušković |
| 出版日期 | 2011 |
| 会议日期 | 2011 |
| 会议地点 | Chicago |
| 会议录 | Proceedings of the 15th International Conference on RF Superconductivity
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| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/260034]  |
| 专题 | 学术会议_国际参会_JaCoW高能所参会会议_SRF |
| 作者单位 | ODU, Norfolk, Virginia, USA |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | J.Upadhyay,M.Nikolić,S.Popović,et al. Optimization of Ar/CL2 Plasma Parameters Used for SRF Cavity Etching[C]. 见:. Chicago. 2011. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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