我国等离子体工艺研究进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 吴承康
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| 刊名 | 物理
 |
| 出版日期 | 1999 |
| 卷号 | 28期号:7页码:388 |
| 关键词 | 等离子体工艺 热等离子体 非平衡等离子体 |
| ISSN号 | 0379-4148 |
| 中文摘要 | 扼要综述了我国等离子体材料工艺研究的新近进展。内容包括：热等离子体源，等离子冶金、化工、超细粉合成、喷涂；低气压非平衡等离子体源，镀膜，表面改性，等离子浸没离子注入；电晕放电，介质阻挡放电，滑动弧等及其应用。当前，各类薄膜制备和表面改性的研究工作最为活跃。 |
| 学科主题 | 力学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 语种 | 中文 |
| CSCD记录号 | CSCD:783454 |
| 公开日期 | 2007-06-15 |
| 源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/17078]  |
| 专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴承康. 我国等离子体工艺研究进展[J]. 物理,1999,28(7):388. |
| APA | 吴承康.(1999).我国等离子体工艺研究进展.物理,28(7),388. |
| MLA | 吴承康."我国等离子体工艺研究进展".物理 28.7(1999):388. |
入库方式： OAI收割
来源：力学研究所
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