基于法线追迹原理的新型高精度面形检测系统
文献类型：期刊论文
| 作者 | 彭川黔; 何玉梅; 王劼 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 2017 |
| 期号 | 9页码:"5-14" |
| 关键词 | 法线追迹原理 加工缺陷 折射率不均匀 纳弧度检测系统 同步辐射光源 |
| 文献子类 | 期刊论文 |
| 英文摘要 | 高精度面形检测系统是同步辐射光源、大型天文望远镜等领域X射线反射镜面的重要检测仪器。为了满足第三代光源及自由电子激光对X射线反射镜面的检测需求,由光学元件加工缺陷引入的系统误差必须得到减小或消除。基于法线追迹原理设计了新型的角度检测系统,在该系统中,小孔及光源组成光束选择装置用于自动选择一束沿待测镜面测量点处法线方向传播的光束。通过测量该光束角度的变化完成对待测镜面面形的检测。将系统中光学元件紧贴小孔放置,减小或消除由相应光学元件加工缺陷引入的角度测量误差。采用法线追迹原理在大角度范围内实现高精度角度检测。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.sinap.ac.cn/handle/331007/28294]  |
| 专题 | 上海应用物理研究所_中科院上海应用物理研究所2011-2017年 |
| 作者单位 | 1.中国科学院上海应用物理研究所嘉定园区 2.中国科学院大学 3.重庆理工大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭川黔,何玉梅,王劼. 基于法线追迹原理的新型高精度面形检测系统[J]. 核技术,2017(9):"5-14". |
| APA | 彭川黔,何玉梅,&王劼.(2017).基于法线追迹原理的新型高精度面形检测系统.核技术(9),"5-14". |
| MLA | 彭川黔,et al."基于法线追迹原理的新型高精度面形检测系统".核技术 .9(2017):"5-14". |
入库方式： OAI收割
来源：上海应用物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。