2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘震 ; 高劲松; 刘海; 王笑夷; 王彤彤
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| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 2016-07-15 |
| 期号 | 7页码:1557-1563 |
| 关键词 | 光学加工 磁控溅射 表面改性 Rb-sic 大口径 |
| 英文摘要 | 为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度,提高表面质量,针对大口径SiC的特性,选择Si作为改性材料,利用磁控溅射技术对2m量级RB-SiC基底进行了表面改性。在自主研发的Φ3.2m的磁控溅射镀膜机上进行基底镀膜,利用计算机控制光学成型法对SiC基底进行了抛光改性。实验结果表明,改性层厚度达到15μm;在直径2.04m范围内,膜层厚度均匀性优于±2.5%;表面粗糙度由直接抛光的5.64nm(RMS)降低到0.78nm。由此说明磁控溅射技术能够用于大口径RB-SiC基底的表面改性,并且改性后大口径RB-SiC的性能可以满足高质量光学系统的要求。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58124]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘震,高劲松,刘海,等. 2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性[J]. 光学精密工程,2016(7):1557-1563. |
| APA | 刘震,高劲松,刘海,王笑夷,&王彤彤.(2016).2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性.光学精密工程(7),1557-1563. |
| MLA | 刘震,et al."2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性".光学精密工程 .7(2016):1557-1563. |
入库方式： OAI收割
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