磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定
文献类型:期刊论文
作者 | 郑立功![]() ![]() ![]() |
刊名 | 光学精密工程
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出版日期 | 2017-01-15 |
页码 | 8-14 |
关键词 | 光学制造 磁流变抛光 去除函数 原点标定 |
DOI | 8E859031FC3606480795D84FE6655EB6 |
英文摘要 | 为了实现磁流变抛光的确定性加工,对磁流变抛光去除函数的原点位置进行了标定。分析了磁流变抛光去除函数的产生过程及其去除率分布。利用标准圆柱,建立了抛光轮最低点与数控加工中心测头的相对位置坐标变换关系,实现了光学元件在机床坐标系中的精确对准。通过在光学元件的特征点上进行去除函数实验测试,实现了抛光轮最低点对应的去除函数原点位置标定,对标定误差进行了分析。选择圆形平面光学元件,应用以金刚石颗粒为抛光粉的水基磁流液,对抛光轮直径为360mm的磁流变抛光系统进行去除函数原点标定,单次标定精度达到0.030mm。实验结果表明:本文提出的去除函数原点标定方法简单可靠,能够满足磁流变抛光技术的修形需求,可为磁流变抛光在光学制造中的应用提供有力支持。 |
语种 | 中文 |
源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58545] ![]() |
专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 郑立功,李龙响,王孝坤,等. 磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定[J]. 光学精密工程,2017:8-14. |
APA | 郑立功,李龙响,王孝坤,薛栋林,&张学军.(2017).磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定.光学精密工程,8-14. |
MLA | 郑立功,et al."磁流变抛光系统去除函数的原点位置标定".光学精密工程 (2017):8-14. |
入库方式: OAI收割
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