碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王依 ; 卢启鹏; 高云国
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| 刊名 | 中国激光
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| 出版日期 | 2017 |
| 页码 | 170-175 |
| 关键词 | 薄膜 极紫外光刻 碳污染 清洗技术 反射率 |
| DOI | 39B1C272C236BBA3038A0E08D1C9F562 |
| 英文摘要 | 极紫外光刻系统中的碳污染会降低多层膜反射率,在保证光学元件性能的前提下,如何选择碳清洗工艺是一项重要课题。通过对不同清洗工艺的原理分析,揭示了不同工艺对多层膜反射率的影响主要体现在膜层氧化、刻蚀及表面粗糙度劣化等方面。基于时域有限差分方法及总积分散射理论,研究了不同影响因素与多层膜反射率的关系。结果表明,膜层氧化及表面粗糙度劣化是导致多层膜反射率下降的主要因素,而刻蚀的影响相对较小。基于以上分析结果,射频氢等离子体及原子氢清洗技术,在去除光学元件表面沉积碳的同时,不会显著降低光学元件性能,可优先考虑采用。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58576]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王依,卢启鹏,高云国. 碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响[J]. 中国激光,2017:170-175. |
| APA | 王依,卢启鹏,&高云国.(2017).碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响.中国激光,170-175. |
| MLA | 王依,et al."碳污染清洗工艺对极紫外光刻光学元件反射率的影响".中国激光 (2017):170-175. |
入库方式： OAI收割
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