CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化
文献类型：期刊论文
| 作者 | 冯宇祥; 孟银霞; 张国玉; 吴一辉 ; 郝鹏
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| 刊名 | 光谱学与光谱分析
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| 出版日期 | 2017-09-15 |
| 页码 | 2826-2831 |
| 关键词 | 紫外增强 旋涂法 荧光薄膜 工艺优化 |
| DOI | 0704B133EB99277081FD97FD9674B338 |
| 英文摘要 | 在硅基探测器的入射窗上制备荧光下转换薄膜,是一种有效降低成本的紫外荧光增强技术。从理论上探讨了由聚二甲基硅氧烷与颜料黄101混合胶体的紫外荧光薄膜旋涂工艺参数与性能之间关系,搭建紫外荧光薄膜应用于光谱分析的性能测试实验平台,对紫外荧光增强薄膜旋涂工艺参数质量配比、旋涂转速进行优化。光谱分析探测器有两个主要指标,光谱响应灵敏度和光谱分辨率,分析与实验结果表明,利用旋涂法制备紫外增强荧光薄膜,旋涂转速将直接影响薄膜的厚度、表面粗糙度和荧光物质的分布,从而影响光谱分析系统的分辨率;紫外荧光增强薄膜的增强效率与荧光溶剂聚二甲基硅氧烷与荧光物质颜料黄101的质量比密切相关,质量比低无法满足对紫外响应效率的提高,但高质量比,荧光物质处在聚集态荧光自猝灭严重,也不利于增强薄膜的紫外响应效率。最终,在薄膜旋涂工艺优化的基础上,旋涂转速2 500~3 000r·min~(-1),荧光物质与荧光溶剂质量比为7∶100制备出紫外荧光增强薄膜。汞灯特征光谱测试结果表明该薄膜313nm紫外波长处探测响应灵敏度提高了1.6倍左右,对比分析镀膜前后特征光谱的半波带宽,镀制紫外增强荧光薄膜对其影响很小。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58664]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 冯宇祥,孟银霞,张国玉,等. CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化[J]. 光谱学与光谱分析,2017:2826-2831. |
| APA | 冯宇祥,孟银霞,张国玉,吴一辉,&郝鹏.(2017).CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化.光谱学与光谱分析,2826-2831. |
| MLA | 冯宇祥,et al."CCD紫外增强薄膜旋涂法工艺优化".光谱学与光谱分析 (2017):2826-2831. |
入库方式： OAI收割
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