静电场辅助的微压印光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘民哲; 王泰升 ; 李和福; 刘震宇; 陈佐龙; 鱼卫星
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| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 2017-03-15 |
| 页码 | 663-671 |
| 关键词 | 静电场 压印 微纳结构 两相流 |
| DOI | 28930D17C2A3FB0A46850502A2C898DE |
| 英文摘要 | 介绍了一种静电场辅助的新型微压印光刻技术,并对其工艺过程进行了深入的理论研究。首先,采用数值仿真软件COMSOL~(TM) Multiphysics,建立了静电场辅助的压印光刻瞬态仿真分析模型,讨论了不同时域微结构的演化过程。然后,详细分析了微结构的成型与仿真实验参数的定性关系,发现:适当地减小极板间距、模板凸起结构周期,同时增加模板的凸起高度、初始聚合物薄膜厚度和电压有助于微纳结构的成型。最后,通过仿真实验参数优化,得到了带有31μm中空结构的球冠微结构。与传统压印方法相比,静电场辅助的微压印技术工艺过程简单且成本较低,能够广泛应用于微电子机械系统、光子学、遗传学和组织系统等。 |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://ir.ciomp.ac.cn/handle/181722/58680]  |
| 专题 | 长春光学精密机械与物理研究所_中科院长春光机所知识产出 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘民哲,王泰升,李和福,等. 静电场辅助的微压印光刻技术[J]. 光学精密工程,2017:663-671. |
| APA | 刘民哲,王泰升,李和福,刘震宇,陈佐龙,&鱼卫星.(2017).静电场辅助的微压印光刻技术.光学精密工程,663-671. |
| MLA | 刘民哲,et al."静电场辅助的微压印光刻技术".光学精密工程 (2017):663-671. |
入库方式： OAI收割
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